Etude de nouveaux photoamorceurs générant des radicaux libres et des acides sulfoniques : application aux nouvelles résines de masquage utilisées en microélectronique VLSI

par Luiz Carlos Marques Carrera

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de MARC ABADIE.

Soutenue en 1993

à Montpellier 2 .


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  • Résumé

    Le travail que nous avons realise apporte une contribution a l'etude de la photolyse, l'efficacite d'amorcage radicalaire et l'activite catalytique de trois familles de photoamorceurs generateurs d'acide sulfonique (pagas): les benzoines sulfonees (bs), les acetophenones sulfonylees (as) et les acetophenones sulfonees (sya). Les caracteristiques optiques des trois familles de pagas, ainsi que leur cinetique de decomposition photochimique en solution ont ete examinees de facon comparative par rt-uv et dosage potentiometrique. L'efficacite des pagas comme amorceurs radicalaires pour la photoreticulation des monomeres acryliques multifonctionnels a ete traitee de facon approfondie. Dans la deuxieme partie de ce memoire nous avons utilise une combinaison de la dsc et de la dpc pour etudier de facon qualitative et quantitative l'acidolyse thermique des groupements protecteurs du type t-boc en milieu liquide et a l'interieur des differentes matrices polymeres

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  • Détails : 221 p

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  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
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  • Cote : TS 93.MON-41
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