Gravure de l'aluminium en plasmas halogénés basse pression-influence du facteur d'aspect

par Philippe Boyer

Thèse de doctorat en Électronique

Sous la direction de Jean-Claude Portal.

Soutenue en 1993

à Toulouse, INSA .


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  • Résumé

    Ce travail s'inscrit dans le cadre du developpement des filieres de fabrication de circuits integres prototypes cmos 0,5 et 0,35 m au centre national d'etudes des telecommunications de meylan (france telecom), et plus precisement de procedes de gravure de l'aluminium. Dans un premier temps, l'auteur presente les specificites de la gravure de l'aluminium, et montre les limites des reacteurs de gravure classique, fonctionnant dans un regime de pression intermediaire (100 mtorr). Cela a conduit au choix d'un reacteur de gravure basse pression (reacteur triode a confinement magnetique, 1 mtorr) dont les caracteristiques ont ete etudiees. L'auteur presente par la suite la demarche experimentale qui a permis de mettre au point un procede de gravure aluminium basse pression, utilisant un melange brome-chlore. Le procede issu de ce travail a demontre sa fiabilite et sa large fenetre de fonctionnement puisqu'il est utilise pour graver differentes metallisations a base d'aluminium (alliages, multicouches). L'apport plus specifique a la comprehension des mecanismes de gravure de l'aluminium a porte sur l'etude de la variation de la vitesse de gravure en fonction du facteur d'aspect. L'influence de la conductivite du masque, des parametres plasma tels que flux d'ions et flux de neutres, et de l'aspect du motif (trou, tranchee,. . . ) a ete etudiee. Ces resultats ont permis de developper un modele base sur l'ecrantage des flux; cet ecrantage est a la fois de nature geometrique (flux d'ions et de neutres) et electrique (flux d'ions)

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Informations

  • Détails : 142 p

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  • Bibliothèque : Institut national des sciences appliquées. Bibliothèque centrale.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 1993/I228/BOY
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