Cristallographie de surface par diffraction de photoélectrons de haute énergie cinétique (XPD) : CoSi2(111), Pt(110) et Pt50Ni50(110)

par William-Luc Brunat

Thèse de doctorat en Sciences. Chimie des matériaux

Sous la direction de Minh Duc Tran.

Soutenue en 1992

à Lyon 1 .

Le président du jury était Minh Duc Tran.

mots clés

• Spectroscopie de photoélectrons
• Photoélectrons -- Diffraction
• Cristallographie
• Surfaces (physique)
• Platine
• Siliciures

Résumé

La diffraction de photoelectrons de haute energie cinetique (xpd) constitue une sonde a la fois chimique comme l'esca dont elle derive et structurale comme toutes les techniques de diffraction. Cette methode d'analyse de surface a ete appliquee a 3 cas: l'analyse par xpd de cosi#2(111) a montre que le cristal, contrairement aux films minces de cosi#2 sur si(111), qu'une seule couche de silicium en surface. Ce resultat confirme l'hypothese de la migration du silicium en surface dans le cas des films minces; la face (110) du platine est consideree comme un modele de reconstruction (21) du type missing row. La comparaison des courbes experimentales avec des simulations effectuees pour 3 modeles possibles (missing row, vertical buckling et lateral pairing) a montre que la reconstruction est bien du type missing row et qu'elle est de plus accompagnee d'une contraction de 30% du plan de surface; l'etude par xpd de l'alliage pt#5#0ni#5#0(110) a permis de mettre en evidence une segregation du nickel a 75% dans le premier plan

Titre traduit

Surface crystallography by mean of high kinetic energy photoelectron diffraction (xpd): cosi#2(111), pt(110) and pt#5#0ni#5#0(110)

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