Pilotage en temps réel de dépôts P. V. D. Plasma : application à une machine mettant en œuvre la technologie D.I.B.S.

par Olivier Leblanc

Thèse de doctorat en Sciences. Automatique

Sous la direction de Jean-Marie Mackowski.

Soutenue en 1992

à Lyon 1 .

Le jury était composé de Jean-Marie Mackowski.

mots clés

• Dispositifs à couches minces
• Projection au plasma -- Informatique
• Dépôt en phase vapeur -- Informatique
• Conception orientée objets (informatique)

Résumé

Nous nous interessons a l'elaboration par une technique de depots de type pvd plasma de composants optiques de haute qualite. La maitrise de la reproductibilite des resultats obtenus sera garantie par la mise en place d'un systeme de pilotage de la machine de depot. Ce systeme doit permettre un fonctionnement automatique de la machine et doit assurer le controle de la qualite. Ce systeme, base sur une structure electro-informatique, est defini en premier lieu par une approche generale des machines de depots pvd plasma. Le modele du logiciel est obtenu en utilisant une methode de conception mixte orientee objet-orientee fonctions. Les contraintes liees a son fonctionnement imposent l'utilisation d'un systeme d'exploitation multitache temps-reel. Cette etude formelle est ensuite developpee et appliquee au cas particulier d'une machine mettant en uvre la pulverisation ionique assistee par faisceau d'ions. Le systeme de pilotage que nous avons realise est presente de maniere detaillee, en particulier les differents mecanismes mis en place dans notre application et lies a l'utilisation du systeme d'exploitation os-9/68020

Titre traduit

Real time control of p. V. D. Processes. Applications to a dual ion beam sputtering system

Pas de résumé disponible.