Etude du depot selectif de siliciure de titane evaluation d'un nouveau systeme de depot chimique en phase vapeur a pression reduite et chauffage rapide

par CLAIRE ATTUYT

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Anne Bouteville.

Soutenue en 1992

à Angers .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    La miniaturisation de plus en plus poussee en micro-electronique conduit a la recherche de materiaux nouveaux plus performants, que ce soit dans le domaine des isolants electriques comme dans celui des conducteurs. Parmi les conducteurs, le silicium de titane presente une conductivite electrique environ dix fois plus faible que celle du silicium polycristallin actuellement utilise. La methode d'elaboration utilisee est le depot chimique en phase vapeur a pression reduite (low pressure chemical vapor deposition). Cette methode a l'avantage de permettre de realiser des depots selectifs (absence de depot sur les zones recouvertes d'oxyde de silicium et depot sur les zones ou le silicium sous-jacent a ete mis a nu). Grace a cette selectivite de depot plusieurs etapes de photolithographie et de gravure peuvent etre supprimees du procede de fabrication des dispositifs a circuits integres. Dans ce travail, une nouvelle machine de depot chimique en phase vapeur a ete utilisee: celle-ci alliant les techniques de recuit rapide par four a lampes infrarouges (appele rapid thermal processing) a celles du depot par l. P. C. V. D. Est appelee rapid thermal low pressure chemical vapor deposition. Apres une etude preliminaire de depot de silicium polycristallin permettant de tester cette nouvelle machine, le depot selectif de siliciure de titane est etudie en utilisant plusieurs phases gazeuses de depart: le chlorure de titane pur, le chlorure de titane hydrogene et le melange chlorure de titane-hydrogene-silane. A partir d'une etude thermodynamique, basee sur les resultats experimentaux, les mecanismes de depot correspondants sont proposes et compares avec ceux de la litterature


  • Pas de résumé disponible.

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Annexes : 47 REF

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université d'Angers. Service commun de la documentation. Section Lettres - Sciences.
  • Accessible pour le PEB
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.