Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium

par Philippe Thevenin

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Paul Siffert.

Soutenue en 1991

à Strasbourg 1 .

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  • Résumé

    Cette these est consacree a l'etude de l'implantation ionique avec des faisceaux de haute energie, dans la gamme du mev. Trois aspects principaux y sont abordes que sont la caracteristion de profils implantes. L'etude de la creation de defauts et la synthese d'une couche d'oxyde enterree. L'etude des profils a ete realisee sur des echantillons de silicium implantes avec du bore et de l'oxygene, respectivement entre 0,5 et 3 mev, et entre 0,6 et 2 mev. Leur caracterisation est obtenue par la determination des quatre premiers moments longitudinaux et de l'ecart type transversal de la distribution volumique des ions implantes. L'etude de leur evolution avec l'energie a notamment permis de constater le role preponderant que jouent les interactions electroniques a haute energie. L'analyse de la creation de defauts a ete realisee sur des echantillons de silicium implantes avec de l'oxygene de 1 mev et suivie en fonction de la temperature de la cible sous faisceau et de la dose implantee. L'endommagement est ainsi apparu evoluer depuis une simple accumulation de defauts ponctuels, predominants jusqu'aux environs de 180c, pour donner naissance a des dislocations imparfaites a plus haute temperature, apparition egalement liee a un seuil en dose. Par implantation d'oxygene a tres forte dose et a 2 mev, il a ete possible de synthetiser une couche d'oxyde profondement enterree et bien definie, apres un traitement thermique a haute temperature et de longue duree

  • Titre traduit

    Study of high energy ionic implantation of boron and oxygen in silicon


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Informations

  • Détails : 134 p
  • Annexes : 150 REF

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