Etude de couches minces de TiO2 déposées par CVD et CVD assistée plasma

par Jamal 1er Lahouidak

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de J. Durand.

Soutenue en 1991

à Montpellier 2 .


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  • Résumé

    L'etude de depot d'oxyde de titane en couches minces par les deux techniques cvd et pacvd en vue de realisation des membranes inorganiques, necessite la maitrise de la texture des couches sur le support de membrane pour l'adapter aux conditions de fonctionnement. En cvd thermique, la texture des couches de tio#2 depend de la pression de travail et de la temperature du substrat. Cette texture est colonnaire a basse pression et granuleuse a des pressions plus elevees pour une temperature de 600c. En pacvd, les couches sont equivalentes au point de vue texture, elles sont amorphes et compactes. La morphologie des couches obtenues par pacvd est fonction de la nature de la surface du substrat. La puissance est un parametre qui peut etre responsable de la vitesse de depot en pacvd. Le domaine de la filtration de solution utilise est l'ultrafiltration et la nanofiltration

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Informations

  • Détails : [12], 192 p.
  • Annexes : Bibliogr.: p. 189-192

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  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TS 91.MON-162
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