Nettoyage de surfaces de silicium par plasma (PMM) d'argon et d'hydrogène : étude de la désorption de l'hydrogène

par Patrice Raynaud

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Claude Pomot.

Soutenue en 1991

à l'Université Joseph Fourier (Grenoble) .


  • Résumé

    Dans ce travail sont etudies differents types de nettoyage par plasma (pmm-rcer) des surfaces de silicium: nettoyage de type physique, par plasma d'argon, en utilisant le bombardement de la surface par les ions crees dans le plasma et nettoyage de type chimique, par plasma d'hydrogene, en utilisant l'action des especes atomiques presentes dans ce plasma. Les analyses parametriques, pendant et apres le traitement plasma, sont realisees par ellipsometrie spectroscopique in-situ (longueur d'onde=0,27-0,9 micron), par diffraction d'electrons lents (del) et par spectrometrie d'electrons auger (sea). C'est ainsi qu'ont pu etre mis en evidence les effets de differents parametres tels que: l'energie des ions, la dose ou encore la temperature de traitement sur l'etat de surface du substrat. De plus, une etude fondamentale de la desorption de l'hydrogene adsorbe sur les surfaces de silicium d'orientation cristalline (100) et (111) est presentee. Elle a permis de differencier les phases de la desorption de l'hydrogene ainsi que les temperatures de transition par couplage des resultats del et ellipsometriques. L'ensemble de ce travail aboutit a la comparaison et a l'optimisation des deux procedes de nettoyage

  • Titre traduit

    Cleaning of silicon surfaces by argon and hydrogen plasma (mmp). Study of hydrogen desorption


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  • Détails : 1 vol. (181 p.)
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  • Bibliothèque : Université Grenoble Alpes (Saint-Martin d'Hères, Isère). Bibliothèque et Appui à la Science Ouverte. Bibliothèque universitaire Joseph-Fourier.
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  • PEB soumis à condition
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