Synthèse et étude de résines microlithographiques sensibles aux UV lointains et résistantes aux plasmas d'oxygène

par Frédéric Bonfils

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de SCHUE GIRAL.

Soutenue en 1990

à Montpellier 2 .


  • Pas de résumé disponible.


  • Résumé

    Ce travail concerne la preparation et l'etude de nouvelles resines de masquage pour microlithographie sensibles aux uv lointains et developpables par voie seche. Ces resines renferment un homopolymere styrenique silicie et un sel de triarylsulfonium qui libere dans le milieu, au cours de sa photolyse, des especes acides qui provoquent l'acidolyse des liaisons o-si du polymere. L'etude par spectroscopie infra-rouge de la coupure des liaisons o-si en milieu solide et l'etude microlithographique des resines siliciees choisies ont permis de montrer la faisabilite d'un tel systeme et que l'on peut s'affranchir de certains phenomenes (vieillissement des solutions d'enduction, continuation des reactions de coupure dans les zones insolees et reticulation) qui risquent d'entrainer des problemes de reproductibilite. De telles resines presentent de tres bonnes sensibilites et une excellente resistance aux plasmas d'oxygene et devraient donc permettre l'obtention de resolutions submicroniques

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 159 p

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TS 90.MON-231
  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Accessible pour le PEB
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.