Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène

par Marc Servera

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de François Schué.

Soutenue en 1990

à Montpellier 2 .


  • Pas de résumé disponible.


  • Résumé

    Un nouveau systeme de masquage pour microlithographie, sensible en uv profonde, a ete etudie. Sa composition originale fait intervenir un polymere methacrylique modifiable par acidolyse photoamorcee en presence de tosylate de benzoine. Cette resine est developpable en negatif par voie humide, en positif par plasma d'oxygene apres mise en uvre d'un procede de silylation selective. L'evaluation des performances microlithographiques a demontre dans les deux cas la faisabilite d'une resolution submicronique

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 217 p
  • Annexes : Notes bibliogr

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Accessible pour le PEB
  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TS 90.MON-092
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.