Etude du depot de tungstene par reaction chimique en phase vapeur assistee par laser. Application a la reconnexion des lignes d'aluminium dans les circuits integres

par MICHEL SPERLING

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Michel Papapietro.

Soutenue en 1990

à l'INP GRENOBLE .

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  • Résumé

    Le depot cvd assiste par laser de tungstene a ete etudie pour permettre la reconnexion des pistes conductrices dans les circuits integres. Des lignes de tungstene ont ete deposees sur de l'oxyde de silicium en presence d'un melange gazeux constitue d'hexafluorure et d'hydrogene. L'aspect morphologique du depot peut etre controle en ajustant la puissance laser, la vitesse de balayage et les pressions partielles. Un modele cinetique a ete construit a partir d'un logiciel de simulation thermique et du calcul de la diffusion de l'hexafluorure a travers l'hydrogene au repos. Un traitement original d'activation thermique a egalement ete developpe pour abaisser le seuil de temperature necessaire a l'amorcage du depot. Des lignes d'aluminium ont enfin pu etre reconnectees par une ligne de tungstene possedant une bonne adherence et des valeurs correctes de resistivite et de resistance de contact


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