Photodecomposition sensibilisee au mercure du monosilane (hg-photo-cvd) : application au depot en couches minces de silicium amorphe hydrogene (a-si : h)

par BOKO AKA

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Paul Siffert.

Soutenue en 1989

à Strasbourg 1 .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    L'etude fondamentale des parametres mis en jeu montre que la limitation de la quantite de cilane decompose et la formation importante d'hydrogene doivent etre associees a un mecanisme chimique en phase gazeuse et a la surface plutot qu'a la diminution de la transparence de la fenetre d'entree consecutive au depot du film si. Il est ainsi mis en evidence que la quantite relative de si depose est tres importante aux basses pressions et que la vitesse de depot peut etre accrue en operant a forte intensite lumineuse. La qualite des couches depend fortement des conditions de preparation, en particulier de la temperature du support. Les couches obtenues ont des proprietes essentielles pour la fabrication de dispositifs photovoltaiques et microelectroniques de dimensions reduites et a bon marche


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Informations

  • Détails : 185 P.
  • Annexes : 345 REF

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