Realisation et caracterisation de transistors en couches minces de silicium polycristallin : effet du podage et de l'epaisseur du film sur les caracteristiques electriques

par ABDALLAH SAKRI

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de YVES COLIN.

Soutenue en 1989

à Rennes 1 .

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  • Résumé

    Afin d'identifier l'origine du courant de fuite qui se manifeste a l'etat bloquant dans les structures mos en couches minces (tft) realisees dans du silicium polycristallin, deux series de structures n+nn+ ont ete fabriquees avec ce materiau. Les couches deposees en phase vapeur a basse pression (lpcvd) ont ete diversement dopees par implantation ionique. L'analyse des caracteristiques electriques des transistors et de celles de simples couches-temoins ayant subi les memes traitements thermiques que ceux-ci, a permis de montrer le role joue dans la transmission du courant de fuite par la zone fortement perturbee a partir de laquelle croissent les grains columnaires, qui forment la couche active des transistors. Ces resultats montrent que le courant de fuite: reste independant de la polarisation de la grille tant que le niveau de celle-ci reste faible, depend en revanche du dopage et des conditions de depot, ne depend pas de facon significative de l'epaisseur (90 a 300 nm) du film sipoly


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Informations

  • Détails : 1 vol. (185 p.)
  • Annexes : 78 REF

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université de Rennes I. Service commun de la documentation. Section sciences et philosophie.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TA RENNES 1989/143
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