Mecanismes d'oxydation des si-lpcvd fortement dopes au bore

par Messaoud Boukezzata

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Danielle Bielle-Daspet.

Soutenue en 1988

à Toulouse 3 .


  • Résumé

    Etude de la cinetique et des mecanismes d'oxydation thermique de films dopes a 210**(20) cm**(-3) b "in situ" et par implantation post-depot. Les resultats prennent en compte les influences du mode de dopage et de la microstructure initiale des films (qui varie d'un etat quasi-amorphe a un etat nettement polycristallin). Leur analyse s'appuie sur a) un logiciel de modelisation de l'oxydation de si et la comparaison avec la cinetique d'oxydation de temoins monocristallins qui permettent de les exprimer en termes de constante de diffusion d et de la vitesse de reaction de surface k::(s) de l'oxydation, b) la comparaison entre depots non dopes, dopes a b par implantation ou "in situ" et c) le suivi des proprietes structurales (rugosite, diagrammes rheed, observations tem) et electroniques des films

  • Titre traduit

    Oxidation mechanisms of highty-doped lpcvd-si films


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  • Détails : 1 vol. (167 P.)
  • Annexes : 81 REF

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  • Cote : 1988TOU30183ju

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  • PEB soumis à condition
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