Evaluation des traitements thermiques rapides infrarouges en microelectronique silicium
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Auteur / Autrice : | Jean-Marie Dilhac |
Direction : | Augustin Martinez |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences appliquées |
Date : | Soutenance en 1988 |
Etablissement(s) : | Toulouse 3 |
Mots clés
FR
Mots clés libres
Sciences appliquees
Electronique
Fabrication microelectronique
Recuit thermique
Mesure temperature
Silicium
Oxydation
Chauffage ir
Thermocouple
Convection
Pyrometre optique
Microelectronic fabrication
Thermal annealing
Temperature measurement
Silicon
Oxidation
Infrared radiation heating
Thermocouple
Convection
Optical pyrometer
Résumé
FR
Le contenu de ce memoire porte sur la mise en oeuvre du recuit thermique rapide infrarouge au silicium. Apres un rappel de l'evolution des moyens de recuit en general, les aspects materiels de cette technique sont tout d'abord presentes. Les problemes de mesure et de controle de la temperature sont developpes: utilisation des thermocouples sous vide, influence de la convection, utilisation des pyrometres optiques a basse temperature. Deux exemples d'application sont ensuite abordes: le recuit post-implantation et l'oxydation rapide. Enfin, les utilisations futures possibles du recuit rapide sont discutees