Etude de la modification des surfaces de silicium et d'oxyde de silicium soumises a des plasmas de trifluoromethane et d'oxygene

par Abdeljalil Rhounna

Thèse de doctorat en Chimie

Sous la direction de Guy Turban.

Soutenue en 1988

à Nantes .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    Le but de cette etude est d'acquerir une connaissance approfondie du mecanisme d'interaction entre les plasmas de chf::(3) et d'o::(2) et les surfaces de si et sio::(2). Deux techniques experimentales ont ete utilisees : la spectrometrie de masse du gaz ionise et la spectrometrie de photoelectrons des surfaces apres traitement par plasma


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Informations

  • Détails : NON PAGINE
  • Annexes : 69 REF

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  • Bibliothèque : Université de Nantes. Service commun de la documentation. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 88 NANT 2036
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