Application des techniques de canalisation d'électrons et de Kossel à l'étude de la texture locale et des contraintes internes de tôles de fer à 3% de silicium

par Gustavo Vigna

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Richard Penelle.

Soutenue en 1987

à Paris 11 .

Le président du jury était Jean Philibert.

Le jury était composé de Richard Penelle, Gérard Maeder, Jean Philibert, G. M. Raynaud, André Guinier.


  • Résumé

    Deux techniques ponctuelles d'analyse cristalline, la canalisation d'électrons par aire sélectionnée et les diagrammes de Kossel en réflexion ont été appliquées :1 - à l'étude de l'évolution de la texture locale lors de la recristallisation secondaire de tôles de Fe 3% SI et de celle des caractéristiques des joints de grains entourant un grain (100) [001]. 2 - à la détermination des contraintes résiduelles de ces mêmes tôles. Il a été montré que le grain de Goss a tendance à se développer plus vite au détriment des grains qui ont avec lui une relation d'orientation proche de la coïncidence. La vitesse de migration des joints spéciaux est plus grande que celle des joints généraux, cependant, elle tend à s'uniformiser lorsque la température augmente. Il a été aussi montré que le grain de Goss consomme préférentiellement tes grains appartenant à la composante majeure (111) <112> de la texture de recristallisation primaire, par rapport à ceux de l'orientation (100) <012>, orientation appartenant à la seconde composante de texture (composante comprise entre les orientations (100) <012> et (012) <100>). Par ailleurs nous avons tenté d'évaluer, à l'aide de la technique de Kossel, les contraintes résiduelles de tôles Fe 3%SI à l'état de recristallisation secondaire. Il a été montré que notre dispositif expérimental ne permet pas de déterminer la distance source ponctuelle-film ni la position du centre du diagramme avec la précision nécessaire à l'évaluation de contraintes résiduelles.

  • Titre traduit

    Application of electron channeling and Kossel method to local texture and internal stresses in iron 3% silicon sheets


  • Résumé

    Two local techniques of crystalline analysis, the Selected Area Electron Channeling Patterns and the Kossel patterns ln reflexion have been applled : 1 - to the study of the local texture evolution during secondary recrystallisation of Fe 3%SI sheets and of the characteristics of grain boundaries surrounding a (110> (0011 grain. 2 - to the determination of residual stresses of these same sheets. Lt has been pointed out that a Goss grain has a tendency to consume more quickly grains which are near a coincidence relationship. The migration velocity of special grain boundaries is higher than the one of general grain boundaries, however it tends to become uniform when temperature increases. It has also been shown that the Goss grain consume preferentially grains belonging to the main component (111) <112> of the prlmary recrystallization texture relative to the minor component (100) <012>. On an other hand we have tried to evaluate with the help of the Kossel technique residual stresses of Fe 3%SI sheets strained after secondary recrystallization. It has been pointed out that our experimental device does not allow to determine with sufficient accuracy neither the distance film-source nor the localisation of the center of the pattern which are necessary for the residual stresses determination.

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Informations

  • Détails : 1 vol. (141 p.)
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. en fin de chapitres

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  • Bibliothèque : Université Paris-Sud (Orsay, Essonne). Service Commun de la Documentation. Section Sciences.
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  • Cote : 0g ORSAY(1987)52
  • Bibliothèque : Centre Technique du Livre de l'Enseignement supérieur (Marne-la-Vallée, Seine-et-Marne).
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TH2014-034403
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