Contribution a l'etude des couches minces de monoxyde de silicium : modifications apportees par l'interface nickel-sio sur les proprietes de transport electrique dans les structures metal-sio-metal

par Thien Phap Nguyen

Thèse de doctorat en Sciences appliquées

Sous la direction de Serge Lefrant.

Soutenue en 1987

à Nantes .

mots clés

• Sciences appliquees
• Electronique
• Structure mom
• Silicium oxyde
• Contact isolant semiconducteur
• Spectrometrie
• Propriete electrique
• Conductivite electrique
• Bruit fond
• Siliciure
• Couche mince
• Silicium monoxyde
• Mom structure
• Silicon oxides
• Semiconductor insulator contact
• Spectrometry
• Electrical properties
• Electrical conductivity
• Background noise
• Silicides
• Thin film
• Silicium monoxide

Résumé

Etude des proprietes des couches minces obtenues par evaporation thermique de la poudre de monoxyde de silicium dans des conditions precises sous forme de structures symetriques al-sio-al ou dissymetriques al-sio-ni

Titre traduit

Contribution to the study of silicon monoxyde thin films: changes on electrical transport properties of metal-sio-metal structures induced by the nickel electrode

Pas de résumé disponible.