Mise au point et optimisation d'un équipement industriel de dépôts chimiques en phase vapeur activés par plasma (PACVD)
par Olivier Laparra
Thèse de doctorat en Composants électroniques et optiques
Sous la direction de Gilles Lecoy.
Soutenue en 1987
à Montpellier 2 .
- Technique des plasmas
- Circuits intégrés
- Couches minces
- Couches minces semiconductrices
- Dispositifs à plasma
mots clés
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Résumé
La technique de depots chimiques en phase activites par plasma a connu au cours de ces dernieres annees un developpement important. Notre travail a consiste a mettre au point un equipement industriel de depots assistes par plasma et a en optimiser les performances. Au cours de cette etude ont ete realises des depots de films dielectriques (oxydes, nitrures. . . ) utilises lors de l'elaboration des circuits integres. Une analyse systematique des differents parametres de depots (temperature, pression, melanges gazeux, puissance de plasma, positionnement des plaquettes, etc. . . ) intervenant lors des processus technologiques est presentee dans ce memoire
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Titre traduit
Development and optimization of an industrial equipment for plasma activated chemical vapor deposition (pacvd)
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