Thèse soutenue

Contribution à l'étude du dopage et de la recombinaison dans le silicium amorphe hydrogéné

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Auteur / Autrice : Frédéric Vaillant
Direction : Jean-Claude Bruyère
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Microélectronique
Date : Soutenance en 1987
Etablissement(s) : Grenoble 1

Résumé

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Effet de l'introduction de diborane et de phosphine dans le melange gazeux depose par decharge electroluminescente a 50 h::(3). Caracterisation par methode optique dans le visible et l'ir, deflexion photothermique, conductivite et photoconductivite stationnaire. Variation avec le dopage de proprietes electriques. Proposition d'un nouveau modele de recombinaison