Excitateurs pour plasma multipolaire micro-onde : application a la realisation d'un reacteur de gravure en microelectronique

par Antoine Durandet

Thèse de doctorat en Sciences appliquées

Sous la direction de CLAUDE POMOT.

Soutenue en 1987

à Grenoble 1 .

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  • Résumé

    Pour la realisation de motifs submicroniques, la resolution n'est desormais plus le seul probleme rencontre. Il devient necessaire de mettre au point des procedes conduisant de plus a une tres bonne uniformite, ainsi qu'a un faible taux de contamination chimique et de defauts induits. De tels procedes, ainsi que des equipements de gravure plasma presentant les qualites requises, peuvent etre realises au moyen des plasmas multipolaires micro-onde (p. M. M. ). L'association d'une excitation micro-onde et d'une structure multipolaire de confinement conduit a une totale independance des parametres regissant la creation du plasma de ceux controlant son interaction avec la surface a traiter. Alors qu'ils etaient utilises pour des etudes fondamentales sur la gravure, les pmm sont apparus comme pouvant devenir des equipements industriels pour le traitement de surface. Dans ce but, les performances de deux sources micro-ondes ont ete etudiees: une source fonctionnant en resonance cyclotronique electronique (rce); une decharge entretenue par onde de surface. Les caracteristiques des plasmas ainsi crees, dans la decharge et dans la zone de diffusion, ont ete relevees, et ces deux dispositifs ont ete etudies pour la gravure sur le couple silicium-fluor. Certains inconvenients nous sont alors apparus, dont il est possible de s'affranchir en utilisant un nouveau dispositif mis au point au laboratoire: la resonance cyclotronique electronique repartie (rcer). La rcer est un dispositif nouveau base sur l'utilisation d'applicateurs filaires operant a la resonance cyclotronique electronique, et positionnes le long des barreaux magnetiques du confinement multipolaire. Il est ainsi possible de realiser des reacteurs a plasma d'une grande souplesse d'utilisation, et dont les domaines d'application sont assez vastes


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Informations

  • Détails : 218 P.
  • Annexes : 61 REF

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