Corrélation des propriétés rhéologiques et de réactivité au comportement tribologique des alliages Ni₁-x Bx et Ni₁-x Px cristallins et amorphes, élaborés par implantation ionique

par Jamal Takadoum

Thèse de doctorat en Sciences physiques

Sous la direction de Jean-Claude Pivin.

Soutenue en 1986

à Paris 11 , en partenariat avec Université de Paris-Sud. Faculté des Sciences d'Orsay (Essonne) (autre partenaire) .


  • Résumé

    Nous avons étudié les propriétés rhéologiques et de réactivité (analysées en terme de structure amorphe ou cristalline) ainsi que le comportement tribologique des deux alliages Ni₁-x Bx et Ni₁-x Px élaborés par implantation ionique. La spectroscopie de désexcitation d'atomes métastables (MDS) et la spectroscopie de photoélectrons (UPS, XPS) nous ont permis de montrer qu'il existe des différences notables dans l’état d'hybridation des orbitales des atomes de métalloïde en surface de Ni₃B amorphe cristallisé. Elles induisent une moindre réactivité de la surface amorphe en phase gazeuse (O₂, CO), mais également vis à vis d'une autre surface (adhésion). La réactivité de Ni₃P amorphe dans les deux cas de figure est encore moindre que celle du borure. Ces résultats expliquent la résistance à l'usure adhésive des films amorphes. Nous avons d'autre part montré grâce à l'utilisation d'une technique d'indentation à l'échelle submicroscopique que l'implantation de B ou dans Ni s'accompagne d'un accroissement de la dureté. Cet accroissement suit celui de la fraction amorphe pour B alors que pour P l’effet durcissant atteint son maximum dès les faibles doses. Nous avons enfin testé la résistance des films de NiB amorphes et cristallins à la corrosion électrochimique en milieu H₂SO₄(O. 1N). Les résultats ont pu être interprétés grâce à des mesures d'impédance complexe de la double couche, caractérisant la nature des processus responsables de la passivation.

  • Titre traduit

    Correlation of rheological properties and reactivity with tribological behaviour of Ni₁-x Bx et Ni₁-x Px alloys prepared by ion implantation


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Informations

  • Détails : 1 vol. (229 f.)
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. p. 215-229

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Paris-Sud (Orsay, Essonne). Service Commun de la Documentation. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 0g ORSAY(1986)165
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