Résines photosensibles pour microlithographie développables par plasma oxygène : (étude et mise au point)

par Olivier Maurin

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de François Schué.

Soutenue en 1986

à Montpellier 2 .


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  • Résumé

    Mise au point d'une resine microlithographique developpable par plasma oxygene contenant un polymere acrylique le polymethacrylate de trichlorophenyle et un compose photosensible de type diazide aromatique. Etude des mecanismes donnant la selectivite en plasma oxygene

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  • Détails : [14], 176, [8] f

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  • Cote : TS 86.MON-63
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