14FDSOI  ALD  Adhérence  Adhésion  Ald  Alignement  Analyse de sensibilité  Anisotropie  Arseniures  Arséniures  Assemblage par force de capillarité  Auto-Assemblage  Auto-Assemblage dirigé  Auto-organisation  Autoassemblage  Basse énergie  Blistering  CD  CVD  Cancer  Capacité  Capacité MOS  Capteurs d'images CMOS  Capteurs optiques  Caractérisation  Caractérisation électrique  Carbone adamantin  Carbure de silicium  Cbram  Cellules  Cellules cancéreuses  Cellules humaines  Chalcogénure  Chalcogénures  Chimie biomimétique  Circuits intégrés  Circuits électroniques  Colloïdes  Commutation  Composants  Condensateurs électriques  Conduction électrique  Constante diélectrique  Contact  Contamination  Contraintes mécaniques dans les objets de petites dimensions  Controle  Contrôle électrostatique  Copolymère biosourcé  Copolymère diblocs  Copolymères séquencés  Copolymères à bloc  Copolymères à blocs  Couches minces  Courants de fuite  DSA  Densité d’états d’interface  Diffraction  Diffusion de liquides  Dimension critique  Dispositifs mémoires  Diélectriques  Diélectrophorèse  Dopage  Dose  Double patterning  Dynamique moléculaire  Défauts induits par plasma  Dégazage  Dégradation de l’oxyde de grille  Dégradation des résines  Déplacement de grille  Dépôt chimique en phase vapeur  Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma  Dépôt en phase vapeur par organométalliques  Dépôt physique en phase vapeur  Dépôts sélectifs  Détection par fluorescence  ESD  Effets de proximité  Effets d’antenne  Electrochimie des solides  Ellipsométrie  Ensemble d’apprentissage  Espaceur  Etude des matériaux et des interfaces  Fiabilité  Fib sem  Filament  Film mince  Films polymères  FinFET  Focus  Fusion de données  Germanium  Graphene  Graphène  Gravure  Gravure Plasma  Gravure atomique  Gravure humide  Gravure par plasma  Gravure plasma  Grille métalique  Grille métallique  High k  Hétérostructures axiales  Hétéroépitaxie  III-V hétérostructures  Iii-V  Implantation  Implantion Hydrogène  InGaAs  Incertitude de mesure  Incertitudes de mesure  Innovations technologiques  Interaction plasma-Surface  Interactions plasma-surface  Intégration 3D  Ions  Isolants  Lithographie  Lithographie optique 193 nm  Lithographie par faisceau d'électrons  Lithographie par rayons X  Lithographie électronique  Lithographies électronique et EUV  Longueur -- Mesure  MIM  MOS  MOS complémentaires  Masque 3D  Matériau à changement de phase  Matériaux  Matériaux nanostructurés  Meb  Meis  Membrane plasmique  Memristors  Mesure  Micro-Électronique  Microelectronique  Microscopie à force atomique  Microscopie à force atomique en mode conduction  Microscopie à sonde locale  Microscopie électronique à balayage  Microélectronique  Microélectroniques  Microélectronnique  Mocvd  Modèle  Modèle OPC  Modèle Résine  Modélisation  Modélisation de données  Multifaisceaux  Mémoire non volatile  Mémoires  Mémoires résistives  Métaloxyde semi conducteur  Métrologie  Métrologie en ligne  Métrologie hybride  Métrologie optique  N-Mosfet  Nano-Impression  Nanodamscène  Nanofabrication  Nanofils  Nanofils de silicium  Nanoimpression  Nanonet  Nanoparticules  Nanorubans  Nanosilicium  Nanostructures  Nanostructures de silicium  Nanotechnologie  Nanotechnologies  Nanoélectronique  OPC  Optique électronique  Optoélectronique  Ordinateurs -- Mémoires  Oxyde bicouche  Oxyde de titane  Oxydes  Permittivité  Photonique  Plasma  Puits quantiques  Scattérométrie  Semiconducteurs  Silicium -- Substrats  Silicium  Structure MIM  Technique  Technique des plasmas  TiO2  Transistors  Transistors en couches minces  

53 thèses soutenues ayant pour partenaire de recherche Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble)
Extrait des plus récentes :

Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 12-07-2018
thèse

Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 21-02-2018
thèse

Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 27-10-2017
thèse