Anodisation du silicium  Architechtures CMOS 3D  Architecture 3D  Auto-Assemblage guidé  Autoassemblage  Blistering  Cmos  Cmos gaa  Contact  Contacts  Copolymère à bloc  Copolymères  Copolymères séquencés  Copolymères à blocs  Diodes à barrière de Schottky  Double patterning  Dsa  Dégradation induites par le plasma  Electronique de puissance  Espaceur  Espaceurs de grille  FinFET  Gravure  Gravure Plasma  Gravure par plasma  Gravure plasma  Lithographie  MOS complémentaires  Microélectronique  Nanosilicium  Nitrure de gallium  Plasma  Silicium -- Substrats  Silicium  Technique des plasmas  Transistors en couches minces  

Nicolas Posseme a rédigé la thèse suivante :

Étude de l'intégration des matériaux à très faible permittivité diélectrique dans une structure damascène pour les filières technologiques CMOS

par Nicolas Possémé sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert - Grenoble 1

Microélectronique

Soutenue en 2005

Nicolas Posseme dirige actuellement les 5 thèses suivantes :

Etude des mécanismes de transfert de structures 3D pour application optoéléctroniques

par Assia Selmouni sous la direction de Nicolas Posseme - Université Grenoble Alpes

Nano electronique et nano technologies

En préparation depuis le 01-12-2021

Développement de procédés plasma en gaz pulsés pour la gravure des contacts et application aux composants logiques avancées

par Antoine Ronco sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes

Nano electronique et nano technologies

En préparation depuis le 02-11-2021

Métrologie overlay non destructive In-chip sur les nœuds avancés en technologies FDSOI / PCM

par Thibaut Bourguignon sous la direction de Nicolas Posseme - Université Grenoble Alpes

Nano electronique et nano technologies

En préparation depuis le 08-12-2020

Développement de procédés innovants de gravure de matériaux chalcogénures pour des applications mémoires non-volatiles et photoniques.

par Benjamin Fontaine sous la direction de Nicolas Posseme - Université Grenoble Alpes

Nano electronique et nano technologies

En préparation depuis le 02-12-2020

Gravure Plasma du Nitrure de Gallium pour la réalisation de micro LEDs à hautes performances

par Antoine Catala sous la direction de Nicolas Posseme - Université Grenoble Alpes

Nano electronique et nano technologies

En préparation depuis le 16-11-2020

Nicolas Posseme a dirigé les 12 thèses suivantes :

Développement de procédés de gravure plasma d’espaceurs de grille en Si3N4 pour la réalisation de transistors en architecture 3D

par Valentin Bacquie sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 22-03-2022

Gravure plasma de copolymères à bloc dit « high-χ »

par Maria Gusmao cacho sous la direction de Nicolas Possémé , Patricia Pimenta-Barros et de Khatia Benotmane . - Université Grenoble Alpes

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 24-09-2021

Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm

par Sana Rachidi sous la direction de Nicolas Possémé , Alain Campo et de Virginie Loup . - Université Grenoble Alpes

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 15-09-2020

Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN

par Frédéric Le roux sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 24-06-2020

Développement de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 pour les technologies sub-10nm

par Vincent Ah-Leung sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 02-03-2020

Développement et caractérisation de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 et SiCO pour la technologie FDSOI 14nm.

par Maxime Garcia barros sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nano electronique et nano technologies

Soutenue le 10-04-2018

Etude de procédés plasmas pour le retrait de résine implantée pour les filières CMOS et photonique

par Marion Croisy sous la direction de Nicolas Possémé et de Erwine Pargon . - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nano electronique et nano technologies

Soutenue le 14-12-2017

Etude d’une lithographie ligne/espace innovante par auto-assemblage dirigé d’un copolymère à blocs pour la réalisation de dispositifs CMOS sub-20nm

par Guillaume Claveau sous la direction de Nicolas Possémé et de Maxime Argoud . - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nano electronique et nano technologies

Soutenue le 14-12-2017

Développement d'un procédé de structuration 3D pour le silicium

par Lamia Nouri sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nano electronique et nano technologies

Soutenue le 11-12-2017

Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm

par Aurélien Sarrazin sous la direction de Christophe Cardinaud , Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros . - Nantes

Sciences et technologies de l'information et de la communication

Soutenue le 16-02-2017

Nouvelle technologie utilisant les plasmas H2 et He pour contrôler la gravure de couches ultraminces à l’échelle nanométrique

par Jérôme Dubois sous la direction de Gilles Cunge et de Nicolas Possémé . - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 18-11-2016

Etude de la gravure des contacts en présence d’un double masque pour les nœuds technologiques avancés

par Mokrane Mebarki sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert , Maxime Darnon et de Nicolas Possémé . - Université Grenoble Alpes (ComUE)

Nanoélectronique et nanotechnologie

Soutenue le 11-05-2016

Nicolas Posseme a été rapporteur de la thèse suivante :

Procédés de gravure plasma pour la réalisation de structures verticales de diodes Schottky de nouvelle génération à base de GaN

par Nicolas Gosset sous la direction de Rémi Dussart - Orléans

Physique des plasmas

Soutenue le 06-07-2016