Nicolas Posseme
Nicolas Posseme a rédigé la thèse suivante :
Étude de l'intégration des matériaux à très faible permittivité diélectrique dans une structure damascène pour les filières technologiques CMOS
par Nicolas Possémé sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert - Grenoble 1
Micro-électronique
Soutenue en 2005
Nicolas Posseme dirige actuellement les 5 thèses suivantes :
Métrologie overlay non destructive In-chip sur les nuds avancés en technologies FDSOI / PCM
par Thibaut Bourguignon sous la direction de Nicolas Posseme , Régis Bouyssou et de Jonathan Pradelles . - Université Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 08-12-2020
Développement de procédés innovants de gravure de matériaux chalcogénures pour des applications mémoires non-volatiles et photoniques.
par Benjamin Fontaine sous la direction de Nicolas Posseme , Christelle Boixaderas et de Jérôme Dubois . - Université Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 02-12-2020
Gravure Plasma du Nitrure de Gallium pour la réalisation de micro LEDs à hautes performances
par Antoine Catala sous la direction de Nicolas Posseme , Romain Sommer et de David Vaufrey . - Université Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 16-11-2020
Modification de propriétés physico-chimiques de surface par nano-structuration multi-échelle
par Raphaël Feougier sous la direction de Raluca Tiron , Nicolas Posseme et de Maxime Argoud . - Université Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 12-11-2020
Développement de procédés de gravure plasma pour des applications Front End Of Line CMOS sub 10nm
par Valentin Bacquie sous la direction de Nicolas Posseme , Aurélien Tavernier et de François Boulard . - Université Grenoble Alpes
Nano electronique et nano technologies
En préparation depuis le 01-10-2018
Nicolas Posseme a dirigé les 10 thèses suivantes :
Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm
par Sana Rachidi sous la direction de Nicolas Possémé , Alain Campo et de Virginie Loup . - Université Grenoble Alpes
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 15-09-2020
Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN
par Frédéric Le roux sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 24-06-2020
Développement de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 pour les technologies sub-10nm
par Vincent Ah-Leung sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 02-03-2020
Développement et caractérisation de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 et SiCO pour la technologie FDSOI 14nm.
par Maxime Garcia barros sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 10-04-2018
Etude de procédés plasmas pour le retrait de résine implantée pour les filières CMOS et photonique
par Marion Croisy sous la direction de Nicolas Possémé et de Erwine Pargon . - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 14-12-2017
Etude d’une lithographie ligne/espace innovante par auto-assemblage dirigé d’un copolymère à blocs pour la réalisation de dispositifs CMOS sub-20nm
par Guillaume Claveau sous la direction de Nicolas Possémé et de Maxime Argoud . - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 14-12-2017
Développement d'un procédé de structuration 3D pour le silicium
par Lamia Nouri sous la direction de Nicolas Possémé - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nano electronique et nano technologies
Soutenue le 11-12-2017
Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
par Aurélien Sarrazin sous la direction de Christophe Cardinaud , Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros . - Nantes
Sciences et technologies de l'information et de la communication
Soutenue le 16-02-2017
Nouvelle technologie utilisant les plasmas H2 et He pour contrôler la gravure de couches ultraminces à l’échelle nanométrique
par Jérôme Dubois sous la direction de Gilles Cunge et de Nicolas Possémé . - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 18-11-2016
Etude de la gravure des contacts en présence d’un double masque pour les nœuds technologiques avancés
par Mokrane Mebarki sous la direction de Olivier Pierre Etienne Joubert , Maxime Darnon et de Nicolas Possémé . - Université Grenoble Alpes (ComUE)
Nanoélectronique et nanotechnologie
Soutenue le 11-05-2016
